而且她们也终于做出了一系列的举措，比如开始从国内那些芯片厂里直接挖人了。
因为他们不能在把命运交给别人的手里了，哪怕这些人是友军。
不行，不能再等了，真的要自己真刀真枪的做起来才行。
而且上面已经说了会给她最大限度的支持，明知道她掌管的这个部门，也许十年甚至二十年之内都不会有成果的。
但是公司上层的大佬还是说了，肯定会给她最大的支持，希望她能够带领团队，把公司的狼性文化挥到极致，争取在最快的时间内，把芯片问题解决掉。
最近一段时间，方总正在闭关，她已经连续一个月组织手下的员工开会了。
大家一直在探讨的关键，就是未来芯片展的方向。
目前市面上主流的芯片制程是7nm，而台积电最先进的芯片制程已经达到5nm了，而三星也宣布要向3nm和2nm进军了。
而国内目前最好的芯片企业，制程已经突破了14nm，可良品率却只有百分之二十五。
可是距离目前世界顶流的5nm，却还差了两代，1onm和7nm的技术。
而且目前在光刻机方面，我们一直被尼德兰的asm1卡着脖子。
现在的问题就是，就算我们有钱，人家也不卖给我们。
而实际情况就是，就算尼德兰人想卖，他们也不敢，因为asmL背后真正的大股东，其实还是世界第一强国。
世界第一不点头，尼德兰人绝对不敢把光刻机卖给咱们。
所以现在的问题就是，想要制造最好的芯片，那咱们就需要更好的光刻机。
可这一块却一直是咱们的短板，目前国内制造的光刻机，精度也就只能拿到28nm，和世界顶流水准差的还远呢。
所以他们现在要面临的问题，就是如何解决光刻机的难题。
如果h公司现在开始制造光刻机，这可能需要几十年的时间，可问题是等你在研光刻机的时候，人家也会在不断的更新迭代。
所以你只能在屁股后面一路跟着，这就会让你永远也追不上人家。
另外就是，目前根据摩尔定律判定，硅芯片的极限，可能也就在1nm了。
就算他们在今后几十年跟进，做到1nm的极限的时候，说不定人家早就已经转进，开始研其他类型的芯片了。
所以关于他们芯片部门，未来到底选择什么样的方向，最近一直争辩的比较厉害。
还有就是关于芯片设计部门的，现在他们也比较头疼，因为米国人把他们使用的工具都给禁了。
原来他们要设计芯片，就必须要使用世界第一的设计工具eda，现在人家把你的设计工具都给禁止了。
这就大大耽误了芯片设计的进度，之前方总已经吩咐一众人等，暂且先放弃下一代的芯片设计工作。
转头开始开工具，这个虽然也难度不小，但最起码还不像硬件的鸿沟那么大。
最近一段时间，大家在各种头脑风暴的碰撞中，总算是有人提出了几个不错的想法。
那就是既然他们以后可能有段时间不能用上最顶级的芯片，那就不妨在原来的芯片上挖潜。
比如把以前97o ，98o ，和99芯片从新设计一遍。
然后给这些芯片加外挂，加人工智能程序，增强这些芯片的运算能力。
这样一来，体积上可能比不上那些单一的主芯片，但性能方面却可能会提升上来。
最起码不会被人拉下太远，唯一的缺陷可能就是散热和耗能方面会有所欠缺。
但这些都可以通过加大电池容量，以及改善散热硬件设计来解决难题。
而这的方向，就成了最近他们研究的主流方向。
最近方总一直在协调部门内部的合作分工，所以在接到于总的电话的时候，真的很是意外。
而于总给她打来电话的意思很简单：“有了破局的方案，来！”
最开始听于总这样说，方总自然是不会信，她甚至觉得自己这个老拍档是不是糊涂了。
可当听到于总声音那控制不住的激动的颤抖的时候，她突然就信了。
关于于总的为人，方总还是了解的，别看这家伙经常在布会上放炮，甚至还经常被国内消费者嘲笑。
可问题是这家伙最有名的事迹就是，虽然他曾经多次在布会上放炮，但最后他曾经放过的炮都一一变成了现实。
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